Нанесение антидеструкционных покрытий на топливные и кислородные баки космических аппаратов
Вакуумные ионно-плазменные методы нанесения покрытия. Оборудование для нанесения равномерных антидеструкционных покрытий на подложки большой площади (топливные и кислородные баки космических аппаратов). Установка вакуумной металлизации типа УВМ-1200.
| Рубрика | Производство и технологии |
| Вид | дипломная работа |
| Язык | русский |
| Дата добавления | 14.03.2016 |
| Размер файла | 1,0 M |
Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже
Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.
Помимо контроля и нормирования величины электромагнитного воздействия, очень важно совершенствовать технические средства с целью снижения испускаемого ими электромагнитного излучения.
Решение проблемы электромагнитного загрязнения окружающей среды - одна из важнейших задач человечества в XXI веке.
Заключение
Данная выпускная квалификационная работа была посвящена модернизации установке вакуумной модернизации типа УВМ-1200.
До модернизации установка УВМ-1200 использовалась для нанесения различных металлов методом резистивного испарения и получаемые покрытия обладали всеми недостатками, присущими этому методу нанесения покрытий - низкой равномерностью получаемой плёнки по толщине, невозможностью наносить покрытия из материалов, температура плавления которых превышает 1500°С, возможностью загрязнения получаемой плёнки материалом нагревателя, технологический процесс обладал большой инерционностью.
Решение поставленной задачи - обеспечение возможности наносить в установке равномерные антидеструкционные покрытия на внешнюю силовую оболочку кислородных баков для космических аппаратов - потребовало провести модернизацию установки, выбрав более совершенный метод нанесения покрытий.
В качестве такого метода после рассмотрения различные вариантов был выбран метод дуального магнетронного распыления.
В ходе модернизации была разработана дуальная магнетронная испарительная система, модернизирована откачная система, разработаны аксиальное установочное устройство для обеспечения вращения обрабатываемого изделия и система подачи газа для напуска в вакуумную камеру технологических газов - аргона и кислорода.
После модернизации установка УВМ-1200 способна наносить равномерные покрытия с высокой скоростью на подложки большой площади, и, в частности, позволяет получать высококачественные антидеструкционные покрытия на внешней силовой оболочке кислородных и топливных баков космических аппаратов.
Получаемое антидеструкционное покрытие позволит в несколько раз увеличить срок службы космических аппаратов на орбите.
Список литературы
1. Устройства со скрещенными электрическим и магнитным полями для нанесения тонкоплёночных покрытий на подложки большой площади / А.А. Соловьёв // Томск, 2007, с.5-73.
2. Generation of pulsed direct-current plasma above 100 torr for large area diamond deposition / W. - S. Lee, K. - W. Chae, K. Y. Eun, Y. - J. Baik // Diamond and Related Materials, 2001, V.10, p.2220-2224.
3. CVD-processes by hollow cathode glow discharge / A. Hellmich, T. Jung, A. Kielhorn, M Ribland // Surf. Coat. Technol., 1998, V.98, p.1541-1546.
4. Linearly extended plasma source for large-scale applications / M Kaiser, K. - M. Baumgartner, A. Schulz, M. Walker, E. Rauchle // Surf. Coat. Technol., V.116-119, 1999. p.552-557.
5. Arc discharge synthesis of uniform thickness diamond coatings on large areas / V. A. Belous, V. V. Vasil'ev, D. Yu. Zaleskij, N. V. Samokhvalov, V. E. Strel'nitskij // Diamond and Related Materials, V.7, 1998, p.143-146.
6. Reactive pulsed laser deposition of silica and doped silica thin films / A. C. Ford, T. Tepper, C. A. Ross // Thin Solid Films V.437, 2003, p.211-216.
7. Ion beam sputter deposition of SmCo permanent magnetic thin films for microsystems applications / R. Balu, A. R. Raju and S. Mohan // Proceedings of ISSS 2005 International Conference on Smart Materials Structures and Systems, Bangalore, India, 2005.
8. Нанесение прозрачных проводящих покрытий на основе оксида цинка методом магнетронного распыления / С.В. Работкин // Томск, 2009, с.13-25.
9. Magnetic field designs for cylindrical-post magnetron discharge sources / Yeom G. Y., Thornton J. A., Penfold A. S. // J. Vac. Sci. Technol., V.6, № 6, 1988, p.3156-3158.
10. Wasa K., Hayakawa S. // Jpn. Patent № 642.012, 1967.
11. Sputtering process and apparatus / Chaplin J. S. // United States Patent № 4.166.018, 1979.
12. Recent advances in magnetron sputtering / Arnell R. D., Kelly P. J. // Surf. and Coat. Technol., V.112, 1999, p.170-176.
13. Unbalanced magnetrons and new sputtering system with enhanced plasma ionization / Musil J., Kadlec S., Mьnz W. D. // J. Vac. Sci. Technol., V.9, № 3, 1991, p.1171-1177.
14. High-rate reactive DC magnetron sputtering of oxide and nitride superlattice coatings / Sproul W. D. // Vacuum, V.51, № 4, 1991, p.641-646.
15. Unbalanced magnetrons and new sputtering system with enhanced plasma ionization / Musil J., Kadlec S., Munz W. D. // J. Vac. Sci. Technol., V.9, № 3, 1991, p.1171-1177.
16. Design, plasma studies, and ion assisted thin film growth in an unbalanced dual target magnetron sputtering system with a solenoid coil / Engstrom C., Berlind T., Birch J. et al. // Vacuum, V.56, 2000, p.107-113.
17. Pulsed magnetron sputter technology / Schiller S., Goedicke K., Reschke J. et al. // Surf. and Coat. Technol., V.61, 1993, p.331-337.
18. Reactive pulsed magnetron sputtering process for alumina films / Kelly P. J.,
Henderson P. S., Arnell R. D. et al. // J. Vac. Sci. Technol., V.18, № 6, 2000, p.2890-2896.
19. Таланов А.В. Всё о воздушных шарах. Москва, Издательство Астрель, 2002.
20. Постановление 848-70. Санитарные нормы и правила при работе с источниками электромагнитных полей высоких, ультравысоких и сверхвысоких частот.
Размещено на Allbest.ru
Подобные документы
Технологии, связанные с нанесением тонкопленочных покрытий. Расчет распределения толщины покрытия по поверхности. Технологический цикл нанесения покрытий. Принципы работы установки для нанесения покрытий магнетронным методом с ионным ассистированием.
курсовая работа [1,4 M], добавлен 04.05.2011Патентная документация, методики поиска патентов, обработка найденной информации. Устройство для нанесения лакокрасочных покрытий в электрическом поле. Нанесение лакокрасочных покрытий в электрическом поле. Нанесение порошкообразных материалов.
курсовая работа [136,8 K], добавлен 30.06.2011Характеристика, свойства и применение современных износостойких наноструктурных покрытий. Методы нанесения покрытий, химические (CVD) и физические (PVD) методы осаждения. Эмпирическое уравнение Холла-Петча. Методы анализа и аттестации покрытий.
реферат [817,5 K], добавлен 26.12.2013Определение и виды лакокрасочных покрытий. Методы их нанесения. Основные свойства лакокрасочных покрытий. Их промежуточная обработка. Защита материалов от разрушения и декоративная отделка поверхности как основное назначение лакокрасочных покрытий.
контрольная работа [172,4 K], добавлен 21.02.2010Виды и свойства керамических покрытий, способы получения. Электронные ускорители низких энергий в технологиях получения покрытий. Нанесение покрытий CVD-методом. Золь-гель технология. Исследование свойств нанесенных покрытий, их возможные дефекты.
курсовая работа [922,9 K], добавлен 11.10.2011Характеристики полимерно-порошкового покрытия. Классификация способов нанесения покрытий. Центробежный метод распыления порошков. Технология порошковой окраски электростатическим напылением - технология зарядки коронным разрядом. Напыление в вакууме.
курсовая работа [497,2 K], добавлен 04.12.2014- Исследование процесса движения частиц в газоплазменном потоке при газотермическом нанесении покрытий
Характеристика основных закономерностей процесса газотермического нанесения покрытий. Устройство плазматрон. Преимущества технологии газотермического нанесения покрытий. Моделирование воздействия концентрированного потока энергии на поверхность.
контрольная работа [3,2 M], добавлен 16.06.2013 Использование космических электрореактивных двигательных установок (ЭДУ) для космических летательных аппаратов с большими временами активного функционирования. Разработка двигательной установки для коррекции орбиты. Расчёт тяговых параметров ЭРДУ.
курсовая работа [545,6 K], добавлен 18.12.2012Понятие и основные этапы вакуумной металлизации как процесса формирования покрытий путем испарения металлов в вакууме и конденсации их на поверхности полимеров. Главные условия эффективного применения данной методики. Свойства полимерных материалов.
курсовая работа [178,2 K], добавлен 12.03.2016Коррозионная стойкость окрашенных изделий. Удаление окисных пленок. Обезжиривание, абразивная очистка, травление, фосфатирование, хроматирование, пассивирование. Классификация процессов нанесения металлических покрытий. Требования к готовым покрытиям.
презентация [180,4 K], добавлен 28.05.2014
