Оборудование для диффузионных процессов, быстрого термического отжига
Оборудование и методы осаждения вещества. Газофазная эпитаксия - процесс осаждения эпитаксиальных слоев из газовой фазы. Конструкция камер для газофазного наращивания. Достоинства метода эпитаксиального наращивания. Получение поликристаллического кремния.
| Рубрика | Производство и технологии |
| Предмет | Технологии химической промышленности |
| Вид | реферат |
| Язык | русский |
| Прислал(а) | sklf |
| Дата добавления | 12.01.2016 |
| Размер файла | 313,3 K |
Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже
Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.
Подобные документы
Эпитаксия - процесс наращивания слоев полупроводникового материала с упорядоченной кристаллической структурой на ориентированной пластине. Эпитаксию можно подразделить на три вида: авто-, гетеро- и хемоэпитаксию. Эпитаксиальные структуры со скрытым слоем.
реферат [124,2 K], добавлен 03.01.2009Механизмы и стадии протекания процессов химического осаждения из газовой фазы для получения функциональных слоев ИМС, их технологические характеристики. Методы CVD и их существенные преимущества. Типы реакторов, используемых для процессов осаждения.
курсовая работа [1,6 M], добавлен 06.02.2014Химическое никелирование: металлов, пластмасс и неорганических диэлектриков. Химическое кобальтирование, меднение, осаждение драгоценных металлов, серебрение, золочение, платинирование. Оборудование для химического осаждения металлических покрытий.
дипломная работа [2,5 M], добавлен 13.12.2007Разработка технологического процесса изготовления КМОП-КНС-ИМ с поликремниевыми затворами. Основные факторы, ограничивающие стоимость и качество КМОП-КНС-ИМ. Процесс наращивания поликристаллического кремния. Термическое оксидирование и фотолитография.
курсовая работа [458,1 K], добавлен 08.04.2016Требования, предъявляемые к защитным диэлектрическим пленкам. Кинетика термического окисления кремния: в сухом и влажном кислороде, в парах воды. Особенности методов осаждения оксидных пленок кремния. Оценка толщины и пористости осаждаемых пленок.
реферат [1,2 M], добавлен 24.09.2009Модные тенденции наращивания волос. Подготовительные и заключительные работы при использовании французского способа наращивания волос, аппаратура, материалы, инструменты и приспособления для проектируемых работ. Рекомендации по уходу за волосами.
курсовая работа [1,0 M], добавлен 25.05.2014Источники примесей для диффузионного легирования кремния и технология диффузии примесей в кремний. Технология и оборудование для проведения процесса диффузии и контроля параметров диффузионных слоев. Использование разработанных источников диффузанта.
дипломная работа [1,5 M], добавлен 07.07.2003Изучение износостойких нанокомпозитных покрытий с использованием методов магнетронного распыления и вакуумно–дугового разряда. Изучение влияния содержания нитрида кремния на твердость покрытия. Измерение микротвердости поверхностного слоя покрытий.
курсовая работа [830,3 K], добавлен 03.05.2016Сущность "псевдоравновесного синтеза". Синтез веществ конгруэнтно растворимых с учетом диаграммы состояния тройных систем. Метод осаждения из газовой фазы. Окислительно-восстановительные реакции в растворах. Физико-химические методы очистки веществ.
контрольная работа [62,9 K], добавлен 07.01.2014Оборудование для термического окисления: модель Дила-Гроува, зависимость толщины окисла от времени окисления, особенности роста тонких и толстых плёнок двуокиси кремния, их свойства и применение в микроэлектронике. Реакторы биполярного окисления.
реферат [106,3 K], добавлен 10.06.2009
