Теоретические основы детонационного напыления
Определение и особенности детонации. Технологические характеристики детонационного напыления. Изучение температуры контакта и следствий давления при ударе. Применение и перспективы совершенствования установки для детонационно-газового напыления.
Рубрика | Производство и технологии |
Предмет | Автоматическая сварка |
Вид | реферат |
Язык | русский |
Прислал(а) | Лимонохват |
Дата добавления | 17.12.2013 |
Размер файла | 300,6 K |
Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже
Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.
Подобные документы
История возникновения и развития технологии напыления, ее современные методы, преимущества, недостатки. Классификация процессов газотермического напыления покрытий. Основные виды установок напыления. Схема универсальной установки газопламенного напыления.
курсовая работа [309,1 K], добавлен 17.10.2013Изучение наиболее эффективных методов термического напыления: плазменного, газопламенного и детонационного, а также плазменной наплавки для восстановления изношенных деталей. Особенности формирования покрытий при сверхзвуковом газопламенном напылении.
реферат [1,4 M], добавлен 13.12.2017Явление коррозии медицинских инструментов, его физическое обоснование и предпосылки, факторы риска и методы профилактики. Технология плазменного напыления: сущность и требования, характеристика наносимых покрытий. Оборудование для плазменного напыления.
курсовая работа [44,3 K], добавлен 05.11.2014Методы напыления и физические основы нанесения тонких пленок, основные требования и системы оборудования для нанесения тонких плёнок, элементы вакуумных систем и устройство вакуумных камер для получения тонких плёнок. Экономическое обоснование проекта.
дипломная работа [4,2 M], добавлен 01.03.2008Основные методы термического напыления: обычный резистивный нагрев испарителя, лазерный и электроннолучевой. Элементы системы вакуумного резистивного напыления. Решение проблемы нарушения стехиометрии тонкопленочного покрытия при резистивном испарении.
статья [98,7 K], добавлен 31.08.2013Принцип действия магнетронного источника распыления. Техническое устройство и система магнетронного напыления тонких проводящих пленок "МАГ-2000". Инструкция по работе с магнетронной системой "МАГ-2000". Замена и тип мишеней в системе напыления.
курсовая работа [1,0 M], добавлен 22.03.2012Особенности технологического процесса плазменного нагрева, плавления вещества, сварки и наплавки деталей, напыления и резки материалов. Физические основы получения и применения светолучевых источников энергии. Технологические особенности излучения ОКГ.
реферат [2,1 M], добавлен 14.03.2011Определение параметров и проектирование расчетной схемы механической части электропривода. Выбор комплектного преобразователя и датчика координат электропривода. Разработка программного обеспечения для компьютерного моделирования электропривода.
курсовая работа [845,8 K], добавлен 25.04.2012Кривая намагничивания, температура Кюри, коэрцитивная сила. Характеристики магнитных материалов. Подготовка к напылению. Термообработка тонких пленок в вакууме. Термообработка по патенту. Расчет защит, заземления для установки вакуумного напыления.
курсовая работа [2,2 M], добавлен 22.06.2015Химические и физико-химические методы модифицирования поверхности алмазных материалов. Разработка процесса модификации поверхности наноалмазов детонационного синтеза с целью их гидрофобизации и совместимости с индустриальными и автомобильными маслами.
дипломная работа [1,6 M], добавлен 17.12.2012