Проектирование цифровых микросхем и печатных плат
Защита телекоммуникационного оборудования от влияния окружающей среды. Сквозной ток при переключении цифровых микросхем: механизм образования и влияние на помехи в системе питания. Базовые конструкции многослойных плат. Основные способы задания графов.
Рубрика | Коммуникации, связь, цифровые приборы и радиоэлектроника |
Вид | лекция |
Язык | русский |
Дата добавления | 20.03.2011 |
Размер файла | 552,7 K |
Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже
Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.
Для оценки системного быстродействия проведём анализ при переключении сигнала в конце линии из 0 в 1 (верхняя осциллограмма №1). Отметим на осциллограмме пороговый уровень Uпор. Как видно, сигнал пересекает порог в момент времени 3Т, что вызывает переключение микросхемы нагрузки. В более неблагоприятной ситуации возможно достижение порога в моменты 5Т и даже 7Т. В этих случаях увеличение системного быстродействия определяется разностью между моментом достижения порога и физической задержкой Т (например 3Т - Т = 2Т). Таким образом может быть внесена существенная погрешность во временные диаграммы, рассчитанные для идеализированных условий.
Другой случай - провал в уровне сигнала, который воспринимается как логический ноль (осциллограмма №2). Такие ошибки чреваты тем, что микросхема воспринимает два импульса вместо одного.
Ещё один случай - наличие значительных, отрицательных по амплитуде импульсов (осциллограмма №3). Это чрезвычайно опасно, особенно для входных каскадов МС поскольку эти отрицательные напряжения могут вывести их из строя.
26. Компоненты сигнала в несогласованной длинной линии в некоторый момент времени
Рассмотрим распространение сигнала в длинной линии. Представим эквивалентную схему длинной линии: Uг - генератор, обладающий выходным сопротивлением Rвых; далее - сама длинная линия, s - начало линии, r - конец линии; Rвх - входное сопротивление микросхемы, или другого четырёхполюсника.
Изобразим координатную плоскость: X - координата по длине линии, t - время. Время пробега электромагнитной волны от начала до конца линии:
Теперь мы можем провести анализ для конкретной линии с дискретами времени Т.
1. t = 0 - в точке s стартует фронт электромагнитной волны и начинает своё распространение по линии.
2. t = T - электромагнитная волна достигла точки r - конца линии. Мы можем определить положение волны в любой момент времени, поскольку скорость распространения ЭМВ на протяжении всей линии одинакова. По приходу волны к концу линии энергия ЭМВ частично поглощается нагрузкой и частично отражается. Количество отражённой энергии определяется коэффициентом отражения kr. Отражённая волна начинает распространяться к началу линии, к точке 2Т по временной оси.
3. t = 2T - в точке s (начало линии) с коэффициентом отражения ks отражается часть энергии электромагнитной волны.
4. t = 3T - отражённая от генератора волна достигла конца линии. И таким образом можно продолжать до полного затухания подающих и отражённых волн. А падающие и отраженные волны действительно затухают, поскольку в линии существуют потери и коэффициенты отражения всегда меньше 1.
В общем случае в линии существует совокупность падающих и отражённых волн. Информационный сигнал в линии будет определяться их суммой, которые существуют в данной точке линии в любой момент времени.
Формулу можно записать следующим образом:
27. Понятие коэффициента отражения для длинной линии. Формулы для его расчета
Коэффициент отражения в конце линии:
В случае согласования линии связи Rн = Z и стало быть kr = 0! В зависимости от значения Rн и Z меняется знак соотношения: Rн > Z Ю kr > 0; Rн < Z Ю kr < 0. Знаки коэффициентов отражения определяют фазу отраженного сигнала. В согласованных линиях отсутствуют отражённые сигналы, поэтому информационный сигнал не искажается.
Коэффициент отражения в начале линии:
28. Аналитический метод расчета помех отражения в длинной линии
Метод применим только при линейных нагрузках. Раскрывая суть алгоритма, рассмотрим основные шаги.
Первый шаг - это расчёт коэффициентов отражения kr и ks.
Второй шаг - расчёт амплитуд падающих и отражённых волн:
Последний шаг - определение формы сигнала U(t) как суммы всех падающих и отражённых волн:
.
29. Графический метод (метод характеристик) расчета помех отражения в длинной линии
Метод применим для любых нагрузок (линейных или нелинейных), и отличается наглядностью и удобством применения в инженерной деятельности. Точность получаемых результатов определяется точностью задания исходных данных. Поэтому далее рассмотрим этот метод расчёта более подробно.
Рис. 12. Токи и напряжения в длинных линиях
Токи и напряжения в длинных линиях описываются системами дифференциальных уравнений в частных производных (так называемые телеграфные уравнения). Для звена линии без потерь эти уравнения имеют следующий вид:
Решение дифференциальных уравнений требует задания начальных и граничных условий. Начальные условия - это состояние системы при t = 0. Граничные условия - состояние системы на границе области: Us, Is в точке s; Ur, Ir в точке r.
Осн. Этапы.
Определение начальных условий,
Граничные условия,
Графическое решение телеграфных уравнений,
Процедура расчёта,
Определение осциллограммы сигнала
30. Области применения аналитического и графического методов расчета помех отражения в длинной линии
Аналитический Метод применим только при линейных нагрузках.
Графический Метод применим для любых нагрузок (линейных или нелинейных), и отличается наглядностью и удобством применения в инженерной деятельности.
31. Граничные условия и их представление при расчете помех отражения методом характеристик
Граничные условия для линий связи в точках s и r определяются вольтамперными характеристиками ИМС. Таким образом, мы всегда используем три вольтамперные характеристики: U1вых(I), U0вых(I) и Uвх(I). Изобразим эти характеристики на рисунке.
Рис. 13. Граничные условия
Токи и напряжения на концах линии связи могут быть только такими, как предписано этими характеристиками.
Таким образом, граничные условия мы задали в графическом виде.
32. Последовательность решения задачи по определению помех отражения методом характеристик
Определение начальных условий
Граничные условия
Графическое решение телеграфных уравнений
Процедура расчёта
Процедура начинается с определения начальных условий для нелинейных сопротивлений нагрузок. В эквивалентной схеме присутствует нелинейное сопротивление Rвых поэтому решение задачи ищется графическим методом.
Определение осциллограммы сигнала
33. Методы и способы согласования длинных линий передачи
Согласование является основным средством устранения помех отражения. Суть согласования заключается в установлении нагрузки линии, равной волновому сопротивлению Rн = Z на конце линии, и (или) Rвых генератора = Z для начала линии.
Для линейных нагрузок отмеченные выше равенства, обеспечивают равенство нулю коэффициента отражения на входе и выходе линии: kus = kur = 0. Для нелинейных нагрузок коэффициенты отражения равны нулю только в отдельных точках диапазона измерений токов и напряжений.
Основной способ согласования состоит в подключении на выход линии параллельного согласующего резистора, или на вход линии - последовательного согласующего резистора, сопротивление которого равно волновому. В любом варианте согласование связано с энергетическими потерями. Для их снижения используют более экономичную схему согласования с применением делителя напряжения.
Различают две основных практические схемы согласования:
1. Согласование по выходу линии (основной вариант).
2. Согласование по входу линии.
34. Согласование по выходу линии
Согласование по выходу линии заключается в установке на выходе линии параллельного согласующего резистора Rc.
Условие выбора согласующего резистора определяется равенством:
Z = Rн = Rc || Rвх.
Задача упрощается тем, что Rвх >> Z; поэтому принимают Rc @ Z.
При нелинейном входном сопротивлении строгое согласование возможно только на определённых участках ВАХ. Угол наклона касательной пропорционален Rвх.
В реальной ситуации входное сопротивление и согласующий резистор имеют некоторый допуск (разброс параметров).
В этом случае возможно рассогласование линии из-за погрешностей изготовления:
Тогда коэффициент отражения будет определяться предельными отклонениями, и не будет равен нулю:
Очевидно, чем больше погрешность изготовления линий связи и согласующего резистора, тем больше рассогласование линии.
35. Согласование по входу линии
Если выходное сопротивление меньше волнового сопротивления, то согласование сводится к установке последовательного резистора Rc на выход микросхемы. Тогда:
Z = Rн = Rвых + Rc.
В этом случае даже, если на выходе линии имеет место рассогласование, то отраженная волна полностью гасится в согласованной нагрузке со стороны генератора и повторной падающей волны не существует. Таким образом, на выходе линии искажений сигнала нет, а на входе линии - искажения вызваны приходом отраженной волны.
36. Скорость распространения сигнала в линии передачи и её зависимость от параметров среды
Таким образом в линиях связи скорость электромагнитной волны снижается пропорционально корню квадратному из относительной диэлектрической проницаемости изоляционного материала в составе линии.
37. Понятие эффективной диэлектрической проницаемости и её влияние на параметры линии передачи
Интегральная оценка диэлектрической проницаемости сложных кусочно-однородных сред даётся эффективной диэлектрической проницаемостью eэф. Для определения эффективной диэлектрической проницаемости можно воспользоваться выражением
eэф= Сд/Сo,
где Сд - реальная ёмкость некоторого конденсатора (эталонного) при наличии исследуемого диэлектрика; Сo - ёмкость того же конденсатора при удалении диэлектрика и замене его воздухом (вакуумом).
Для эффективной проницаемости может быть получено малое значение. Все определяется объемной долей воздуха в составе диэлектрика: eэф >= (1,1 … 1,7).
Используя eэф можно определить время задержки распространения сигнала в линии связи:
,
где 3,3 нс/м - это удельная задержка электромагнитной волны в свободном пространстве (величина обратная скорости света).
38. Структурный метод проектирования МПП основа синтеза конструкции платы
Постановка задачи при структурном проектировании выглядит следующим образом: требуется назначить функции отдельных слоёв в МПП таким образом, чтобы все ЛС в составе платы отвечали бы заданным электрическим параметрам (задаётся обычно волновое сопротивление или погонная ёмкость).
Печатная плата содержит, как правило, три вида слоёв:
· Сигнальный слой;
· Слой питания с потенциалом Е;
· Слой земли (шина заземления) с потенциалом Е0;
Ограничение на задачу заключается в том, что число сигнальных слоёв Nсигн определяется топологией платы, это вытекает из этапа топологического проектирования.
Исходные данные для задачи структурного проектирования:
1. Базовый метод изготовления платы - металлизация сквозных отверстий. Этот метод позволяет создавать МПП с числом слоёв до двадцати и более.
2. Результаты этапа топологического проектирования. Выясняется количество сигнальных слоёв Nсигн. В большинстве случаев достаточно бывает четырёх и менее слоёв.
3. Число слоёв шин питания и земли NENE0. Число слоёв NE0 земли должно быть не менее одного. Число слоёв шины питания определяется принципиальной схемой и зависит от количества источников питания. Для каждого потенциала должен быть хотя бы один слой.
4. Исходные электрические требования к линии связи. Как правило, это волновое сопротивление Z [Ом], и если необходимо, то может быть задана погонная ёмкость C[пФ/м].
5. Конструкции корпусов элементной базы (корпусов ИМС). Тип корпуса определяет ограничения на толщину платы, если выводы устанавливаются в отверстия платы.
Эта тема затрагивает следующие вопросы:
Сигнально-потенциальные звенья,
Методика расчета звеньев,
Граф набора структуры,
Таблица набора структуры,
Синтез структуры,
Ограничения на толщину,
Реализация МПП.
39. Помехи в шинах питания: механизм образования и способы подавления
Помехи отражения возникают в длинных линиях при рассогласованных нагрузках. При проектировании линии связи должны быть известны допустимые искажения сигнала. В основном они определяются допустимым снижением системного быстродействия и помехоустойчивостью элементной базы. При конструировании линии возможно управление параметрами сигнала путём изменения конструкции линии. При этом изменяются C, L и как следствие Z (волновое сопротивление линии), что тут же приводит к изменению коэффициента отражения k и соответственно формы сигналов.
Рис. 14. Расчёт помех отражения
Кроме того с помехами отражения борются на этапе схемотехнического проектирования. Один из возможных приёмов борьбы - установка согласующего резистора. При конструировании (на этапе конструкторского проектирования) необходимо обеспечить выполнение равенства RC = Z. В данном случае Z есть функция конструкции. Если, например, в схеме указано, что RC = 50 Ом, то конструктор обязан выполнить линию связи с волновым сопротивлением Z = 50 Ом. В любом случае изменяя конструкторские параметры линии варьируем значением волнового сопротивления с целью минимизации помех в линии.
40. Влияние индуктивности шины питания на образование помех в системе питания
На этапе схемотехнического проектирования производится введение дополнительных ёмкостей в шину питания (конденсаторов). Места установки конденсаторов - это точки непосредственного импульсного потребления тока.
На этапе конструкторского проектирования необходимо:
А) - уменьшить индуктивность шины питания посредством увеличения её площади сечения, уменьшения при этом длины шины и изменения её формы на более плоскую.
Б) - увеличить ёмкость шины питания Сшп относительно заземления, увеличив её площадь.
Следует помнить, что для системы “проводник-земля” L·C = const, поэтому увеличение ёмкости соответствует снижению индуктивности.
Снижение индуктивности может быть достигнуто с учётом следующих особенностей. При равных сечениях плоская шина имеет меньшую индуктивность. В целом, чем больше момент инерции проводника, тем меньше его индуктивность. Физически это объясняется более свободным распределением линий тока по сечению шины, в итоге чего снижается взаимная индуктивность между ними и в результате - индуктивность шины.
Шины питания в печатных платах и других конструкциях должны выполняться в виде совместного расположения проводников питания и заземления, как, например, в двусторонних печатных платах. Индуктивность рассчитывается с взаимным влиянием двух составляющих (сигнала и заземления). Поскольку направление токов в проводниках противоположное, то и электромагнитные поля вокруг них так же имеют противоположные направления. Происходит частичная компенсация этих полей, и чем ближе сигнальная линия к “земле”, тем полнее компенсация и меньше суммарная индуктивность. Это же соответствует увеличению ёмкости относительно “земли”.
41. Понятия ближней и дальней зоны при анализе экранирования. Структура поля в ближней зоне и в дальней зоне
Рецептор - объект, который находится под воздействием электромагнитных помех. Внутри РЭС рецепторами выступают маломощные чувствительные элементы и узлы на их основе. Чем выше быстродействие микросхемы, тем чувствительней она как рецептор. Электронное устройство в целом является рецептором помех для внешних источников.
Источники помех разделяют на источники естественного и искусственного происхождения.
ЭМС - это способность аппаратуры функционировать согласно требованиям ТУ одновременно с другими устройствами в реальной электромагнитной обстановке и не создавать при этом недопустимых помех другим потенциальным рецепторам - устройствам, аппаратам и пр.
Источники помех, модель которых может быть представлена в виде токовой петли. При этом возникает интенсивное магнитное поле и слабое электрическое. Эти источники имеют малое волновое сопротивление.
Рис. 15. Три зоны действия источников
Полученные относительные значения Z действительны для области, которая находится в непосредственной близости от излучателя. На значительных расстояниях основная составляющая поля - та, которая имеет большее значение, убывает быстрее дополнительной составляющей. И в конце концов волновое сопротивление Z становится равным 377 Ом, то есть волновому сопротивлению свободного пространства.
Для первого типа источников основная составляющая - электрическая - убывает пропорционально 1/r3. Дополнительная - магнитная - пропорционально 1/r2. Для источников второго типа ситуация обратная. Магнитная составляющая убывает пропорционально 1/r3, а электрическая - пропорционально 1/r2.
Можно выделить три зоны действия источников.
1. Ближняя зона. Здесь преимущественно действует механизм индукции с достаточно чётким разделением на магнитную и электрическую составляющие.
2. Переходная зона - зона формирования плоской электромагнитной волны.
3. Дальняя зона - зона действия плоской электромагнитной волны (Т-волны).
Таким образом, при анализе экранирования необходимо разделять задачи локализации электрического, магнитного и электромагнитного полей.
42. Требования к электростатическому экрану. Механизм работы электростатического экрана
Электрическое и магнитное поля рассматривают как квазистатические. Картины электрического и магнитного полей при соответствующих частотах, и картины статических полей совпадают. Поэтому выводы, полученные для статического случая пригодны для использования в определённом диапазоне частот. Итак, в ближней зоне проводим по сути экранирование статического поля. В ближней зоне действует закон электромагнитной индукции.
Где же ставить экран? Экран по возможности ставится как можно ближе к источнику. В конструкциях РЭС эта рекомендация может быть выполнена, когда источник находится в пределах устройства. Когда же источник находится вне пределов досягаемости, или, если невозможно экранировать источник, экранируют рецептор.
Обеспечение эффективной работы экрана. Первым делом его необходимо заземлить! При заземлённом экране происходит следующее: на экране индуцируются заряды, и за счёт заземления заряды нейтрализуются. Получается, что экран является препятствием для силовых линий электрического поля.
Требования к узлу заземления. В первую очередь это минимальное сопротивление. Поэтому основные способы его выполнения - посредством пайки или сварки. Все другие виды соединения - заклёпки, винты могут быть использованы только при гарантии долговременной надежности механического соединения и отсутствия коррозии в месте соединения. При отсутствии заземления экран может быть переизлучателем поля источника.
Материал экрана. Основное требование к экрану - максимальная проводимость. К толщине материала требований не предъявляется. Чаще всего используются медь, медные сплавы, алюминий.
Конструкция экрана
Экран не должен содержать щелей, отверстий, мест стыка и тому подобных неоднородностей, ориентировка которых препятствует протеканию тока в цепях заземления (1). Если необходимо выполнить отверстия или жалюзи, например, для охлаждения, то они должны быть расположены вдоль линий токов (2).
Электростатическое экранирование - самый простой способ экранирования аппаратуры.
Существенную проблему представляет выполнение экрана для аппаратуры в пластмассовых корпусах (например, мониторы компьютеров). Повышение эффективности экранирования в этом случае достигается: 1. Применением композиционных материалов (пластмасса с металлическим наполнителем); 2. Нанесением поверхностных слоёв металла (напыление металлов, нанесение специальной проводящей краски, оклейка корпуса фольгой и т. п.).
43. Требования к магнитостатическому экрану и механизм его работы
Механизм работы магнитостатического экрана заключается в шунтировании силовых линий магнитного поля.
Где поставить экран? по возможности вблизи источника.
Что сделать для обеспечения эффективной работы? Заземлять магнитный экран не надо. Эффективность экранирования прямо пропорциональна магнитной проницаемости m и толщине экрана t.
Какие материалы применять? Те, которые имеют максимальную магнитную проницаемость m. А это стали, различные пермаллои и соответствующие магнитные сплавы с высоким значением ?m.
А какова конструкция экрана ?Да такая же, как и конструкция для электростатического экранирования, но неоднородности не должны препятствовать силовым линиям магнитного поля.
Магнитное экранирование на низких частотах является самой сложной практической задачей. Оно существенно усложняет и утяжеляет конструкцию.
44. Требования к электромагнитному экрану и механизм его работы
Электромагнитное экранирование
Рассмотрим работу экрана при падении на него плоской электромагнитной волны.
1. - падающая ЭМВ
2. - проходящая ЭМВ
3. - отражённая ЭМВ
4. - снова отражённая ЭМВ
5. - прошедшая ЭМВ
Е1- напряжённость поля без учёта экрана. Е2 - напряжённость поля с учётом экрана; Е1 > Е2.
Эффективность экранирования:
S = 20 Ч lg(E1/E2), дБ.
Коэффициент экранирования:
Кэкр = Е2/Е1;
S = 20 Ч lg(1/Кэкр).
Для расчета эффективности через параметры экрана существует формула:
S = R + A + B, дБ.
R- составляющая, определяющая отражение от границы раздела при входе волны в экран.
A - определяет эффективность экранирования за счёт поглощения электромагнитной волны в толще экрана.
B- характеризует потери за счёт многократных отражений в толще экрана.
B мало - 2ё3 дБ. Эту величину можно приравнять к нулю.
Имеем три среды: воздух, металл и снова воздух. По сути, имеем структуру диэлектрик-металл-диэлектрик.
Волновое сопротивление среды:
Для металла, поскольку удельная проводимость? s << jw e, выражение будет иметь вид:
Для диэлектрика:
Знак ±--описывает падающую и отражённую волны. В нашем случае, для воздуха:
Одна из возможных моделей для анализа экрана - это модель длинной линии. Коэффициент прохождения электромагнитной волны через экран:
Кпр = 1 - Котр.
Суммарный коэффициент прохождения через экран:
КSпр = К1прЧ К2пр.
При этом потери отражения оцениваются:
R = 20 Ч lg(1/ КS пр).
Для металлического экрана
Z1 >> Z2 Ю КSпр = 4 Ч Z2/Z1.
При электромагнитном экранировании имеют место быть потери на поглощение экраном электромагнитной энергии. На поверхности экрана возникает скин-слой.
На определённой частоте толщина скин-слоя:
t - толщина экрана.
Рис. 16. Зависимость суммарной потери от частоты
Суммарная потеря:
S = R + A
В точке А эффективность электромагнитного экранирования минимальна.
Для электрических составляющих в целом справедливы ранее указанные правила, но добавляется эффект отражения электрического поля.
Для магнитной составляющей основной вклад вносят потери на поглощение, и с повышением частоты в большей степени проявляется эффект вытеснения магнитного поля. Это происходит за счёт генерации вихревых токов на поверхности экрана, поле которых и вытесняет подающую электромагнитную волну.
45. Модели источника помех и структура поля в ближней зоне
1. Источники с высоким волновым сопротивлением. Для них эквивалентная схема или модель может быть представлена в виде штыря (антенна-штырь). В окрестностях этого штыря формируется относительно интенсивное электрическое поле (ЭП), и слабое магнитное поле (МП). Как мы помним, Z = Uп/Iп. Поскольку электрическое поле вызывает напряжение, а магнитное - вызывает ток, получается, что большое ЭП и малое МП обеспечивает высокое волновое сопротивление Z (Z = Е/Н).
2. Источники помех, модель которых может быть представлена в виде токовой петли. При этом возникает интенсивное магнитное поле и слабое электрическое. Эти источники имеют малое волновое сопротивление.
Рис. 17. Три зоны действия источников
Полученные относительные значения Z действительны для области, которая находится в непосредственной близости от излучателя. На значительных расстояниях основная составляющая поля - та, которая имеет большее значение, убывает быстрее дополнительной составляющей. И в конце концов волновое сопротивление Z становится равным 377 Ом, то есть волновому сопротивлению свободного пространства.
Для первого типа источников основная составляющая - электрическая - убывает пропорционально 1/r3. Дополнительная - магнитная - пропорционально 1/r2. Для источников второго типа ситуация обратная. Магнитная составляющая убывает пропорционально 1/r3, а электрическая - пропорционально 1/r2.
Можно выделить три зоны действия источников.
1. Ближняя зона. Здесь преимущественно действует механизм индукции с достаточно чётким разделением на магнитную и электрическую составляющие.
2. Переходная зона - зона формирования плоской электромагнитной волны.
3. Дальняя зона - зона действия плоской электромагнитной волны (Т-волны).
Размещено на Allbest.ru
Подобные документы
Интегральные микросхемы, сигналы. Такт работы цифрового устройства. Маркировка цифровых микросхем российского производства. Базисы производства цифровых интегральных микросхем. Типы цифровых интегральных микросхем. Схемотехника центрального процессора.
презентация [6,0 M], добавлен 24.04.2016Материалы, используемые при изготовлении однослойных печатных плат. Маркировка печатных плат, контроль и автоматизация технологического процесса изготовления однослойных печатных плат. Система печатных проводников. Длина сигнальных проводников в плате.
курсовая работа [1,2 M], добавлен 14.06.2011Алгоритмическое, логическое и конструкторско-технологическое проектирование операционного автомата. Изучение элементной базы простейших цифровых устройств. Разработка цифрового устройства для упорядочивания двоичных чисел. Синтез принципиальных схем.
курсовая работа [2,5 M], добавлен 07.01.2015Характеристика оборудования фирмы LPKF для производства печатных плат в домашних условиях. Исследование набора инструментов для скрайбирования и сверления, конструкции фрезерного станка для высокоточной обработки, оборудования для металлизации отверстий.
курсовая работа [1,2 M], добавлен 07.12.2011Принцип устройства и работа интегральной микросхемы. Пробник для проверки цифровых микросхем. Устройство и принцип работы светодиода. Общие сведения об управлении автоматизации и метрологии. Функции и задачи центральной лаборатории измерительной техники.
аттестационная работа [2,2 M], добавлен 19.06.2010Анализ технологии изготовления плат полупроводниковых интегральных микросхем – такого рода микросхем, элементы которых выполнены в приповерхностном слое полупроводниковой подложки. Характеристика монокристаллического кремния. Выращивание монокристаллов.
курсовая работа [2,0 M], добавлен 03.12.2010Технические характеристики цифрового компаратора. Описание цифровых и аналоговых компонентов: микросхем, датчиков, индикаторов, активных компонентов, их условные обозначения и принцип работы. Алгоритм работы устройства, структурная и принципиальная схемы.
курсовая работа [1023,2 K], добавлен 29.04.2014Автоматизация конструирования. Разработка схем цифровых устройств на основе интегральных схем разной степени интеграции. Требования, методы и средства разработки печатных плат. Редактор АСП DipTrace. Требования нормативно-технической документации.
отчет по практике [2,9 M], добавлен 25.05.2014Переход на субмикронную и частично глубокую субмикронную технологии. Системы на кристалле, в корпусе и на подложке. Базовые технологии и их ограничения. Проектирование микросхем с низковольтным питанием. Микросхемотехника аналого-цифровых СФ блоков.
реферат [144,5 K], добавлен 03.03.2011Методы создания печатных плат и характерные размеры элементов. Субтрактивный, аддитивный и полуаддитивный метод. Размеры сетки для отображения печатных плат, контактных площадок и отверстий. Создание макета печатной платы в среде Sprint-Layout 5.0.
дипломная работа [2,5 M], добавлен 11.01.2016