статья  Особенности конденсации капельной фазы вакуумно-дугового разряда на этапе ионной очистки

Изучение конденсации капельной фазы вакуумно-дугового разряда в процессе ионной очистки поверхности образца. Оценка чисел Вебера для микрокапель титана различной формы. Обнаружение микрокапель с зернистой структурой, имеющие средний размер зерна.

Нажав на кнопку "Скачать архив", вы скачаете нужный вам файл совершенно бесплатно.
Перед скачиванием данного файла вспомните о тех хороших рефератах, контрольных, курсовых, дипломных работах, статьях и других документах, которые лежат невостребованными в вашем компьютере. Это ваш труд, он должен участвовать в развитии общества и приносить пользу людям. Найдите эти работы и отправьте в базу знаний.
Мы и все студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будем вам очень благодарны.

Чтобы скачать архив с документом, в поле, расположенное ниже, впишите пятизначное число и нажмите кнопку "Скачать архив"

 ######      #     ######      ##     ####   
 #          ##     #           ##    #    #  
 #           #     #          # #         #  
 #####       #     #####      # #      ###   
      #      #          #    #  #         #  
      #      #          #   ######        #  
 #    #      #     #    #       #    #    #  
  ####       #      ####       ###    ####   
                                             
                                             

Введите число, изображенное выше:

Рубрика Физика и энергетика
Вид статья
Язык русский
Дата добавления 11.12.2016
Размер файла 1,1 M

Подобные документы

  • Кипение как процесс перехода из жидкой фазы в газообразную (пар). Выделение теплоты при конденсации пара (скрытая теплота конденсации). Режимы процесса кипения. Образование пузыря в несмачиваемой впадине на стенке. Коэффициент теплоотдачи при кипении.

    презентация [4,3 M], добавлен 15.03.2014

  • Исследование и физическая интерпретация соотношения, определяющего зависимость напряжения возникновения разряда от давления газа и межэлектродного расстояния. Возникновение коронного и дугового разрядов в газовом промежутке с плоским оксидным катодом.

    реферат [159,5 K], добавлен 30.11.2011

  • Характеристики тлеющего разряда, процессы, обеспечивающие его существование. Картина свечения. Объяснение явлений тлеющего разряда с точки зрения элементарных процессов. Вольт-амперная характеристика разряда между электродами. Процессы в атомарных газах.

    реферат [2,8 M], добавлен 03.02.2016

  • Экологические проблемы и влияние жизнедеятельности человека на атмосферу и гидросферу Земли. Дисперсные системы. Атмосферные аэрозоли, классификация и размер. Характеристика частиц дисперсной фазы. Газокинетические процессы в дисперсной системе.

    дипломная работа [939,8 K], добавлен 12.10.2008

  • Повышение стойкости металлических поверхностей к коррозионным процессам. Применение метода конденсации вещества в вакууме с ионной бомбардировкой. Конденсация веществ из плазмы в остаточной атмосфере азота при совмещении плазменных потоков металлов.

    реферат [2,0 M], добавлен 26.06.2010

  • Изучение тлеющего газового разряда как одного из видов стационарного самостоятельного электрического разряда в газах. Создание квантовых источников света в люминесцентных лампах. Формирование тлеющего газового разряда при низком давлении газа, малом токе.

    презентация [437,2 K], добавлен 13.04.2015

  • Общее понятие и особенности ионной имплантации. Структура и свойства имплантированных слоев. Физические основы метода. Влияние энергии ионов на процессы энергообмена при их столкновении с атомами мишени. Преимущества процесса ионной имплантации.

    реферат [61,4 K], добавлен 19.01.2011

  • Основные параметры и свойства положительного столба (ПС) тлеющего и дугового разрядов. Метастабильные атомы в ПС. Явление катафореза в смеси газов. Основные механизмы накачки возбужденных энергетических уровней газа. Излучение ПС, параметры плазмы.

    контрольная работа [511,1 K], добавлен 25.03.2016

  • Исследование направлений использования метода ионного легирования углеродных наноструктур. Характеристика ионной имплантации и её применения в технологии СБИС. Расчет профиля распределения примеси при ионной имплантации бора различных энергий в кремний.

    реферат [556,8 K], добавлен 18.05.2011

  • Самостоятельный и несамостоятельный разряды в газах. Описание установки для измерения тока ионного тока тлеющего разряда. Модель физического процесса. Построение графиков, отображающих зависимость ионного тока тлеющего разряда от расстояния до коллектора.

    курсовая работа [1,3 M], добавлен 14.09.2012

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу.