Фізико-технологічні особливості формування субмікронних структур великих інтегральних схем

Розроблення субмікронної технології високого рівня в інтегральних схемах, модульності чистих зон з іонізацією ламінарних повітряних потоків для забезпечення високої чистоти з нейтралізацією електростатичних зарядів і індивідуальною обробкою Si-пластин.

Рубрика Физика и энергетика
Предмет Твердотільна електроніка
Вид автореферат
Язык украинский
Прислал(а) Новосядлий С.
Дата добавления 15.07.2014
Размер файла 67,4 K

Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже

Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.


Подобные документы

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу.