Фазові і структурні перетворення у нанорозмірних рентгенооптичних багатошарових композиціях
Роль одномірних кристалів для тонкоплівкових шаруватих композицій. Особливості виготовлення рентгенооптичних елементів і функціональних твердотільних матеріалів. Засоби формування рентгенівських дзеркал для керування електромагнітним випромінюванням.
Рубрика | Физика и энергетика |
Вид | автореферат |
Язык | украинский |
Дата добавления | 23.11.2013 |
Размер файла | 95,4 K |
Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже
Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.
Порівняльне дослідження відбивної здатності БРД W/Si, WC/Si і WSi2/Si показало, що WC/Si дзеркала мають деяку перевагу для Н>3 нм при =2,36 нм, 1,3 нм і 0,154 нм унаслідок меншої міжшарової шорсткості. Для більш короткоперіодних дзеркал ця перевага зникає і для всіх розглянутих типів вольфрам-кремнієвих дзеркал спостерігається різке зменшення R. Це пов'язано зі зростанням відношення Н, а при Н<1,5-2 нм, як показали електронно-мікроскопічні дослідження поперечних зрізів, із утратою суцільності кремнієвих шарів. Більш високу якість при Н<2 нм демонструють дзеркала W/B4C за рахунок формування суцільної плівки тугоплавкого карбіду бору на більш ранніх стадіях росту.
У розділі 8 “Застосування БРД в оптичних системах і приладах. Багатошарові рентгенооптичні елементи нового покоління” продемонстровані нові можливості в проведенні фізичних експериментів, спрямованих на розв'язання фундаментальних і прикладних задач, завдяки застосуванню БРД, а також запропоновані нові рентгенооптичні елементи на основі багатошарових плівкових композицій. До числа останніх відноситься дифракційна решітка на основі зрізу багатошарової композиції. Такий елемент, що поєднує високу ефективність і роздільну здатність, являє собою БРД із періодом Н, зрізане під кутом до нанесених шарів. Поверхня, що утворилася в результаті, являє собою дифракційну решітку, період якої:
Висока ефективність такої решітки забезпечується складанням дзеркального відбиття БРД і m-го (ненульового) порядку дифракційної решітки. Спектральне розділення прямо пропорційне кількості штрихів, що дорівнює числу періодів N багатошарової композиції. Проведені порівняльні дослідження Аl плазми за допомогою стандартної увігнутої дифракційної решітки, що має щільність 600 штрихів/мм і зрізаної дифракційної решітки на основі багатошарової композиції MoSi2/Si підтвердили більш високу ефективність останньої. При цьому спектральне розділення склало 300 при N=5102 і 700-800 при N=103. Збільшення числа періодів N понад 5102 супроводжується руйнуванням багатошарової композиції MoSi2/Si внаслідок наростання механічних напруг у системі “Si-підкладка - MoSi2/Si багатошарова композиція”. Причиною виникаючих у багатошаровій композиції напруг стиску є ущільнення аморфних шарів Si у результаті заглиблювання власних енергетичних атомів у процесі вирощування, що призводить до підвищення ступеня структурної нерівноважності шарів Si. Наступна структурна реконструкція шарів аморфного Si, що відбувається зі збільшенням об'єму, призводить до руйнування системи “Si-підкладка - MoSi2/Si багатошарова композиція”. У результаті проведених досліджень було встановлено, що зниженню рівня напруг сприяє як підвищення температури підкладки Тп, так і збільшення тиску робочого газу Р. При цьому в обох випадках спостерігається погіршення оптичних характеристик багатошарових композицій унаслідок розвитку міжшарової шорсткості. Вирішення проблеми вирощування багатошарової композиції MoSi2/Si із великим числом періодів було знайдене в забезпеченні компромісних умов формування покриття, які забезпечили поєднання мінімальних напруг із прийнятними оптичними характеристиками. Для композицій із Н=30 нм і числом періодів N103 оптимальними умовами виявилися: Тп=490К, РАг=0,42Па.
У результаті проведених досліджень особливостей формування багатошарових нанорозмірних рентгенооптичних композицій, оптимізації матеріалів, умов і методів їхнього вирощування були створені БРД з оптичними характеристиками, які дозволяють в даний час використовувати їх для практичних застосувань.
Підтвердженням цьому є результати застосування дзеркал у рентгеноспектральних приладах VRA-20, 30, MAP, CPM-25, РЭММА101А, 102, для контролю легких хімічних елементів (від бору до магнію). За допомогою БРД Mо/Si був створений рентгенівський мікроскоп на основі об'єктива Шварцшильда з просторовим розділенням 0,2 мкм на довжині хвилі 20 нм і стигматичний спектрограф для діагностики плазми зі спектральним розділенням 4103 у діапазоні довжин хвиль 13-18 нм.
ВИСНОВКИ
Отримані в роботі експериментальні дані і розвинені в ній уявлення про процеси зародження, міжшарової взаємодії, структурні і фазові перетворення у тонкоплівкових шаруватих системах, а також запропоновані й експериментально реалізовані способи підвищення їхньої стійкості при підвищених температурах забезпечили вирішення проблеми розробки фізичних основ формування нового типу твердотільних функціональних матеріалів - багатошарових нанорозмірних плівкових композицій, зокрема з підвищеною термічною і радіаційною стабільністю. Результати проведених комплексних досліджень зводяться до таких основних висновків:
1. Структурні і фазові перетворення, які відбуваються в процесі росту і нагрівання в багатошарових плівкових нанорозмірних періодичних композиціях, складених із фазово-нерівноважних матеріалів:
Що визначаються інтердифузійною взаємодією шарів, спрямованою на зниження рівня термодинамічної нерівноважності системи. У результаті міжшарової взаємодії відбувається формування перехідних зон на міжшарових межах поділу, утворення нових фаз, перерозподіл товщин шарів, розвиток міжшарової шорсткості, зменшення періоду, виникнення механічних напруг і, в остаточному підсумку, руйнування багатошарової системи. Вперше показано, що асиметрія товщини перехідних зон на сусідніх межах між шарами обумовлена відмінністю механізмів росту матеріалів і ступеня досконалості кристалічної структури шарів.
2. У багатошарових плівкових композиціях, складених із фазово-рівноважних у масивному кристалічному стані пар матеріалів:
- нагрівання, за відсутності міжшарової взаємодії, ініціює структурне вдосконалювання шарів і дифузію уздовж міжшарових меж, забезпечуючи зниження рівня вільної енергії за рахунок зменшення ступеня структурної нерівноважності і скорочення площі міжфазних меж поділу. Наслідком цих процесів є згладжування міжшарових шорсткостей, кристалізація і рекристалізація шарів, а також їхня міжшарова агломерація.
3. Встановлено, що основним механізмом утрати стійкості багатошарових плівкових композицій на основі вуглецю:
- при нагріванні є дифузійне об'єднання шарів, які містять метал, обумовлене спільним впливом температури і неоднорідних механічних напруг, викликаних процесом графітизації вуглецю, що протікає зі збільшенням об'єму, неоднорідно по площі і товщині шару.
4. Запропонований й експериментально підтверджений новий підхід до вибору матеріалів для створення термічно стійких, високо відбивних багатошарових рентгенівських дзеркал, суть якого полягає в комплексному врахуванні оптичних характеристик, фазової рівноваги і технологічних особливостей росту тонких матеріалів. Розроблені дзеркала матеріалів:
- розширили температурний інтервал ефективного застосування рентгенооптичних елементів до ~ 970- 1270 К.
5. Встановлено, що ефект зменшення швидкості росту на стадії зародження шарів при формуванні багатошарових плівкових обумовлений:
а) утворенням перемішаних зон на міжшарових межах поділу у фазово-нерівноважних системах W/Si або Mo/Si;
б) ревипаровуванням Ni у фазово-нерівноважній системі Ni/C або Cr у фазово-нерівноважній системі Cr/С при температурах підкладки 470 К.
6. Показано, що структурна реконструкція аморфних кремнієвих шарів із збільшенням їхнього питомого об'єму викликає генерацію механічних напруг у системі “Si-підкладка багатошарова композиція”, котрі призводять до її руйнування при збільшенні числа періодів 5102. Оптимізація умов росту (підвищення температури підкладки до 490 К і тиску робочого газу до 0,42 Па) забезпечує зниження рівня механічних напруг без істотного погіршення оптичних властивостей покриття, що дозволяє вирощувати багатошарові композиції із періодом Н35-40нм і числом періодів N=103.
7. Дослідження механізмів формування структури шарів і міжшарових меж багатошарових плівкових композицій із періодами ~1,3-35 нм із широкого кола хімічних елементів і сполук і аналіз основних структурних “дефектів” (суцільність шарів, шорсткість міжфазних меж, міжшарова взаємодія), які визначають рентгенооптичні властивості багатошарових покрить, у залежності від методу й умов їхнього синтезу, забезпечили вирішення проблеми вирощування високо відбивних багатошарових дзеркал для ефективного керування рентгенівським випромінюванням із довжинами хвиль у діапазоні =0,1-30 нм.
8. Ефективними способами підвищення термічної стійкості багатошарових плівкових композицій фазово-рівноважних матеріалів є:
а) зсув міжшарової взаємодії в область підвищених температур за рахунок збільшення його енергії активації шляхом ущільнення решітки домішками проникнення. Перехід від системи W/Si до WC/Si розширив термічну стійкість багатошарової композиції з 600 К до 1000 К;
б) застосування структурно-стабілізуючих елементів, шляхом введення добавок для блокування внутрішньошарових процесів.
9. Розроблені фізичні основи формування нанорозмірних багатошарових плівкових композицій і досягнутий рівень їхніх рентгенооптичних характеристик дозволили вирішити ряд прикладних задач:
а) створити кристали-аналізатори для рентгено-спектрального контролю легких хімічних елементів від бору до натрію;
б) розробити і створити принципово новий оптичний елемент у вигляді зрізаної дифракційної решітки для рентгенівської спектроскопії;
в) за допомогою рентгенівських дзеркал створити рентгенівський мікроскоп на основі об'єктива Шварцшильда з розділенням менше 0,2 мкм на довжині хвилі ~20 нм;
г) створити з застосуванням багатошарових рентгенівських дзеркал стигматичний високо відбивний спектрограф із високим спектральним розділенням (=13,1-13,9 нм).
д) продемонструвати принципову можливість створення зрізаних зонних пластинок для фокусування жорсткого рентгенівського випромінювання (=0,1-0,2 нм).
рентгенооптичний електромагнітний випромінювання
ОСНОВНІ МАТЕРІАЛИ ДИСЕРТАЦІЇ ВІДОБРАЖЕНІ В ТАКИХ ПУБЛІКАЦІЯХ
1. Многослойные интерференционные системы на основе пары материалов титан-бериллий / А.В. Антонов, С.С. Борисова, В.В. Кондратенко, А.И. Исаков, В.И. Микеров, И.Ф. Михайлов, Л.С. Палатник, А.Г. Пономаренко, Н.Н. Сапошников, В.А. Тукарев, А.И. Федоренко // Журнал технической физики. - 1986. - Т. 56, вып. 6. - С. 1241-1244.
2. Характеристики брэгговских отражений от многослойной структуры титан-кремний вблизи К-края поглощения кремния / В.В. Кондратенко, И.Ф. Михайлов, А.Г. Пономаренко, А.В. Стебленко // Журнал технической физики. - 1987. - т. 57, в. 9. - С. 1831-1833.
3. Исследование титан-бериллиевых многослойных рентгеновских зеркал, изготовленных методом электронно-лучевого испарения / А.В. Виноградов, И.В. Кожевников, В.В. Кондратенко, И.И. Ляховская, А.Г. Пономаренко, С.И. Сагитов, А.И. Федоренко // Письма в журнал технической физики. - 1987. - Т. 13, в. 6. - С. 129-132.
4. Исследование коэффициентов отражения многослойных титан-кремниевых рентгеновских зеркал при нормальном падении / С.С. Борисова, И.В. Кожевников, В.В. Кондратенко, И.И. Ляховская, И.Ф. Михайлов, А.Г. Пономаренко, С.И. Сагитов, А.И. Федоренко, В.А. Чирков, А.С. Шулаков // Журнал технической физики, - 1989. - Т. 59, в. 3. - С. 78-83.
Размещено на Allbest.ru
Подобные документы
Фазові перетворення, кристалічна структура металів. Загальний огляд фазових перетворень. Стійкість вихідного стану. Фазово-структурні особливості в тонких плівках цирконію. Динаміка переходів цирконію, розрахунок критичної товщини фазового переходу.
курсовая работа [3,7 M], добавлен 02.02.2010Фазові перетворення та кристалічна структура металів. Загальний огляд фазових перетворень, стійкість вихідного стану. Фазово-структурні особливості в тонких плівках цирконію, особливості динаміки переходів. Розрахунок критичної товщини фазового переходу.
курсовая работа [3,9 M], добавлен 14.02.2010Кристалічна структура та фононний спектр шаруватих кристалів. Формування екситонних станів у кристалах. Безструмові збудження електронної системи. Екситони Френкеля та Ваньє-Мотта. Екситон - фононна взаємодія. Екситонний спектр в шаруватих кристалах.
курсовая работа [914,3 K], добавлен 15.05.2015Способи вирощування кристалів. Теорія зростання кристалів. Механічні властивості кристалів. Вузли, кристалічні решітки. Внутрішня будова кристалів. Міцність при розтягуванні. Зростання сніжних кристалів на землі. Виготовлення прикрас і ювелірних виробів.
реферат [64,9 K], добавлен 10.05.2012Процеси інтеркаляції водню матеріалів із розвинутою внутрішньою поверхнею. Зміна параметрів кристалічної гратки, електричних і фотоелектричних властивостей. Технологія вирощування шаруватих кристалів, придатних до інтеркалюванняя, методи інтеркалювання.
дипломная работа [454,6 K], добавлен 31.03.2010Загальна характеристика шаруватих кристалів, здатність шаруватих напівпровідників до інтеркаляції катіонами лужних, лужноземельних металів, аніонами галогенів, а також органічними комплексами. Ітеркаляція та інтеркаляти: методи та характеристики процесу.
реферат [200,7 K], добавлен 31.03.2010Природа електронних процесів, що відбуваються при високоенергетичному збудженні і активації шаруватих кристалів CdI2. Дослідження спектрів збудження люмінесценції і світіння номінально чистих і легованих атомами металів свинцю кристалів йодистого кадмію.
курсовая работа [666,8 K], добавлен 16.05.2012Сутність оптичної нестабільності (ОП). Модель ОП системи. Механізми оптичної нелінійності в напівпровідникових матеріалах. Оптичні нестабільні пристрої. Математична модель безрезонаторної ОП шаруватих кристалів. Сутність магнітооптичної нестабільність.
дипломная работа [2,5 M], добавлен 13.06.2010Комбінаційне і мандельштам-бріллюенівське розсіювання світла. Властивості складних фосфорвмісних халькогенідів. Кристалічна будова, фазові діаграми, пружні властивості. Фазові переходи, пружні властивості, елементи акустики в діелектричних кристалах.
курсовая работа [1,6 M], добавлен 25.10.2011Історія розробки секціонованих дзеркал в астрономічному приладобудуванні. Вплив величини зазору між елементами складеного дзеркала на якість формування оптичного променя. Амплітуда переміщення поверхні для суцільних дзеркал. П'єзоелектричні приводи.
реферат [24,5 K], добавлен 06.03.2011