Разработка топологического чертежа интегральной микросхемы

Рубрика	Коммуникации, связь, цифровые приборы и радиоэлектроника
Вид	курсовая работа
Язык	русский
Дата добавления	10.05.2013
Размер файла	1,1 M

Отправить свою хорошую работу в базу знаний просто. Используйте форму, расположенную ниже

Студенты, аспиранты, молодые ученые, использующие базу знаний в своей учебе и работе, будут вам очень благодарны.

Подобные документы

• Особенности проектирования усилителя слабых сигналов

  Разработка усилителя слабых сигналов в виде интегральной микросхемы (ИМС) в корпусе. Выбор технологии изготовления. Расчет геометрических размеров и топологии элементов интегральной микросхемы. Выбор навесных компонентов, типоразмера платы и корпуса.
  
  курсовая работа [381,0 K], добавлен 29.10.2013
  

• Разработка интегральной микросхемы параметрического стабилизатора

  Использование параметрических феррорезонансных стабилизаторов напряжения. Конструктивно-технологическое исполнение интегральной микросхемы. Расчет интегрального транзистора и его характеристики. Разработка технических требований и топологии микросхемы.
  
  курсовая работа [140,6 K], добавлен 15.07.2012
  

• Разработка конструкции, топологии и технологического процесса изготовления интегральной микросхемы усиления тока индикации кассового аппарата

  Разработка конструкции, топологии и технологического процесса интегральной микросхемы по заданной электрической схеме. Топологический расчет транзистора и полупроводникового кристалла. Расчет геометрических размеров резисторов и конденсаторов.
  
  курсовая работа [1,3 M], добавлен 18.02.2010
  

• Типовые процессы изготовления интегральных микросхем

  Маршрут изготовления биполярных интегральных микросхем. Разработка интегральной микросхемы методом вертикального анизотропного травления с изоляцией диэлектриком и воздушной прослойкой. Комплекс химической обработки "Кубок", устройство и принцип работы.
  
  курсовая работа [1,2 M], добавлен 18.04.2016
  

• Расчёт интегральной микросхемы

  Анализ исходных данных и выбор конструкции. Разработка коммутационной схемы. Расчет параметров элементов. Тепловой расчет микросхемы в корпусе. Расчет паразитных емкостей и параметров надежности микросхемы. Разработка технологии изготовления микросхем.
  
  курсовая работа [150,4 K], добавлен 12.06.2010
  

• Разработка интегральной микросхемы истокового повторителя для слухового аппарата

  Электрические параметры интегральной микросхемы (ИМС). Расчет параметров модели полевого транзистора с управляющим p-n-переходом. Моделирование схемы включения истокового повторителя. Разработка топологии и технологического маршрута изготовления ИМС.
  
  дипломная работа [1,9 M], добавлен 29.09.2010
  

• Разработка интегральной микросхемы АМ-ЧМ приёмника по типу TA2003

  Основные принципы построения АМ-ЧМ приемников. Анализ схемы электрической принципиальной ИМС TA2003. Разработка физической структуры кристалла, технологического маршрута изготовления и топологии интегральной микросхемы. Компоновка элементов и блоков.
  
  дипломная работа [2,0 M], добавлен 01.11.2010
  

• Расчет геометрических размеров резисторов и разработка топологии интегральных микросхем

  Конструктивные и технологические ограничения, которые учитываются при разработке топологии интегральной микросхемы на биполярных транзисторах, схемотехнические параметры. Порядок расчета полупроводниковых резисторов, общие сведения об их изготовлении.
  
  курсовая работа [1,8 M], добавлен 26.05.2010
  

• Разработка интегральных микросхем

  Разработка конструкции и технологии изготовления полупроводниковой микросхемы выполненной в интегральном исполнении. Обоснование выбора технологии изготовления микросхемы, на основании которого разработан технологический процесс, топология кристалла.
  
  курсовая работа [708,7 K], добавлен 13.07.2008
  

• Проектирование гибридных интегральных микросхем и расчет элементов узлов детектора СВЧ сигналов

  Топологический расчет схемы принципиальной электрической для толстопленочной гибридной интегральной микросхемы (ГИС). Конструирование, технология толстопленочных ГИС. Расчет толстопленочных резисторов и конденсаторов. Выбор корпусов для микросхем.
  
  курсовая работа [260,5 K], добавлен 03.02.2010
  

• Технологический процесс изготовления платы интегральной микросхемы-фильтра

  Технология изготовления платы фильтра. Методы формирования конфигурации проводящего, резистивного и диэлектрического слоя. Выбор установки его напыления. Расчет точности пленочных элементов микросхем и режимов изготовления тонкопленочных резисторов.
  
  контрольная работа [359,2 K], добавлен 25.01.2013
  

• Технология и техника изготовления бескорпусной интегральной микросборки

  Разработка топологии изготовления бескорпусной интегральной микросборки на основе тонкопленочной технологии. Схемотехнические данные и используемые материалы. Разработка коммутационной схемы соединений. Расчет тонкопленочных элементов микросборки.
  
  курсовая работа [1,2 M], добавлен 07.08.2013
  

• Основные этапы планарно-эпитаксиальной технологии

  Особенности и основные этапы производства полупроводниковых микросхем на биполярных транзисторах. Описание этапов планарно-эпитаксиальной технологии в производстве полупроводниковых ИС. Основные сведения об элементах структур полупроводниковых ИС и БИС.
  
  презентация [155,5 K], добавлен 24.05.2014
  

• Электрический расчет цифровой схемы

  Упрощенная модель кремниевого биполярного транзистора. Частичная схема для расчета тока при комбинации заданных входных сигналов "1110". Максимальные мощности резисторов. Разработка топологии интегральной микросхемы, рекомендуемые размеры подложек.
  
  контрольная работа [1,5 M], добавлен 15.01.2015
  

• Технология изготовления интегральной схемы транзисторно-транзисторной логики (ТТЛ)

  Технологический процесс изготовления полупроводниковой интегральной схемы ТТЛ. Расчет режимов базовой и эмиттерной диффузии, а также эпитаксии. Уточнение профиля распределения примеси в эмиттерной области. Определение точности изготовления резисторов.
  
  курсовая работа [2,6 M], добавлен 14.03.2014
  

• Разработка конструкции и технологического процесса изготовления диффузионного резистора

  Описание и анализ конструкции диффузионного резистора. Оптимизация его конструкции с учетом критерия минимальной площади. Последовательность операций планарно-эпитаксиальной технологии производства биполярных полупроводниковых интегральных микросхем.
  
  курсовая работа [1,2 M], добавлен 20.11.2013
  

• Разработка конструкции и технологии изготовления усилителя низкой частоты в интегральном исполнении

  Выбор резистивного материала, проводников, подложки. Расчет размеров плёночных резисторов. Выбор конструкции корпуса, навесных компонентов, оборудования. Разработка топологии платы, схемы коммутации. Технология изготовления платы и сборки микросхемы.
  
  курсовая работа [610,8 K], добавлен 26.11.2014
  

• Р-канальный полевой транзистор с изолированным затвором

  Конструкция интегральной микросхемы на транзисторах. Преобразование и обработка входного сигнала. Технические условия для интегральных микросхем р-канального полевого транзистора с изолированным затвором. Нанесение пленки алюминия и фотолитография.
  
  контрольная работа [1,8 M], добавлен 07.05.2013
  

• Разработка системы подачи электропитания по расписанию

  Выбор и обоснование элементной базы, структурной и принципиальной схем, компоновки устройства. Расчет узлов и блоков, потребляемой мощности и быстродействия. Выбор интегральной микросхемы и радиоэлектронных элементов, способа изготовления печатной платы.
  
  дипломная работа [149,1 K], добавлен 23.10.2010
  

• Принципиальная схема усилителя на основе полевых и биполярных транзисторов

  Основные технические показатели электронного усилителя: коэффициент усиления, входное и выходное сопротивления, диапазон усиливаемых частот, динамический диапазон, нелинейные, частотные и фазовые искажения. Разработка гибридной интегральной микросхемы.
  
  курсовая работа [772,0 K], добавлен 08.04.2014
  

• главная
• рубрики
• по алфавиту
• вернуться в начало страницы
• вернуться к началу текста
• вернуться к подобным работам