| главнаяреклама на сайтевакансииуслуги | Коллекция рефератов Otherreferats |
|
|
||||||||||||||||||||||||||||||||||
P-N переходыПринцип работы P-N перехода в полупроводниковых приборах, как слоя с пониженной электропроводностью, образующийся на границе областей с электронной и дырочной проводимостью в единой структуре при диффузии доноров или акцепторов. Зонные диаграммы.
Отправить свою хорошую работу на сайт просто. Используйте форму, расположенную ниже.
Подобные работы1. Принцип действия полупроводниковых диодов, свойства p-n перехода, диффузия и образование запирающего слоя. Применение диодов в качестве выпрямителей тока, свойства и применение транзисторов. Классификация и технология изготовления интегральных микросхем. презентация [352,8 K], добавлена 29.05.2010 2. Физические элементы полупроводниковых приборов. Электрический переход. Резкий переход. Плоскостной переход. Диффузионный переход. Планарный переход. Явления в полупроводниковых приборах. Виды полупроводниковых приборов. Элементы конструкции. реферат [17,9 K], добавлена 14.02.2003 3. Составление измерительных схем для снятия характеристик опто-электронных приборов, содержащих p-n-переходы; регистрация напряжений и токов. Значения параметров цепи, получение ВАХ p-n-перехода, определение параметров перехода, моделирование работы схемы. лабораторная работа [459,4 K], добавлена 23.12.2011 4. Использование транзистора для обозначения портативных радиовещательных приемников на полупроводниковых приборах. Особенности субмикронных МОП-транзисторов. Уравнение электронейтральности для зарядов на единицу площади. Принцип действия МДП-транзистора. реферат [44,1 K], добавлена 12.01.2010 5. Работа полупроводниковых электронных приборов и интегральных микросхем. Некоторые положения и определения электронной теории твердого тела. Кристаллическое строение полупроводников. Электронно-дырочный переход. Вольтамперная характеристика п-р перехода. лекция [196,9 K], добавлена 15.03.2009 6. Свойства полупроводниковых материалов, применяемых для производства транзисторов и диодов. Понятие электронно-дырочного перехода (n-p-перехода), определение его вольтамперной характеристики. Расчет зависимости плотности тока насыщения от температуры. курсовая работа [612,5 K], добавлена 12.12.2011 7. Временные диаграммы работы статических и динамических регистров. Схема для исследования работы регистров. Принцип работы и диаграммы регистра сдвига вправо на D-триггерах. Реализация i-го разряда реверсивного сдвигового регистра, анализ функционирования. лабораторная работа [429,4 K], добавлена 01.12.2011 8. Расчёты показателей надёжности изделий электронной техники при заданных условиях. Защита микросхем от внешних дестабилизирующих факторов: температуры и влажности. Обеспечение теплового режима работы интегральных микросхем (гибридных и полупроводниковых). курсовая работа [408,3 K], добавлена 19.03.2012 9. Рассмотрение принципов работы полупроводников, биполярных и полевых транзисторов, полупроводниковых и туннельных диодов, стабилитронов, варикапов, варисторов, оптронов, тиристоров, фототиристоров, терморезисторов, полупроводниковых светодиодов. реферат [72,5 K], добавлена 14.03.2010 10. Электропроводимость полупроводников. Образование электронно-дырочной проводимости и ее свойства. Условное обозначение полупроводниковых приборов, классификация и основные параметры. Биполярные и МОП транзисторы. Светоизлучающие приборы и оптопары. лекция [1,8 M], добавлена 17.02.2011 11. Классификация и условные обозначения полупроводниковых диодов. Назначение, область применения и общий принцип их действия. Вольтамперная характеристика и основные параметры полупроводниковых диодов. Диод Есаки (туннельный диод) и его модификации. курсовая работа [1,8 M], добавлена 19.10.2009 12. Принцип действия рупорных антенн, расчет диаграммы направленности рупорной антенны на заданной частоте. Освоение методики измерения диаграммы направленности, поляризационной диаграммы рупорной антенны и коэффициента стоячей волны в фидерной линии. контрольная работа [330,4 K], добавлена 04.03.2011 13. Физические основы и принцип работы светоизлучающих диодов как полупроводниковых приборов, излучающих некогерентный свет. Применение и анализ преимуществ и недостатков светоизлучающего диода. Стоимость светодиодных ламп и перспективы использования в ЖКХ. реферат [22,8 K], добавлена 03.03.2011 14. Классификация, структура, принцип работы, обозначение и применение полупроводниковых диодов, их параметры. Расчет вольтамперных характеристик при малых плотностях тока. Особенности переходных характеристик диодов с р-базой. Методы производства диодов. курсовая работа [923,5 K], добавлена 18.12.2009 15. История развития радиоприемных устройств. Принцип работы приемника. Обоснование выбора резисторов, конденсатора, микросхем. Разработка сборочного чертежа печатной платы. Организация рабочего места оператора при эксплуатации электронной аппаратуры. дипломная работа [4,6 M], добавлена 09.01.2009 16. История создания электронной лампы. Принципы устройств и работы электровакуумных приборов. Назначение и применение диодов и триодов. Основные виды электронной эмиссии. Физические процессы и токораспределение в триодах. Построение характеристик ламп в EWB. курсовая работа [2,2 M], добавлена 15.12.2010 17. Физико-химические основы процессов микроэлектроники. Распределение примесей после зонной плавки. Расчет распределения примеси в полупроводнике после диффузионного отжига при различных условиях диффузии. Нахождение положения электронно-дырочного перехода. курсовая работа [839,1 K], добавлена 30.10.2011 18. Эксплуатация полупроводниковых преобразователей и устройств: недостатки полупроводниковых приборов, виды защит. Статические преобразователи электроэнергии: трансформаторы. Назначение, классификация, виды, конструкция. Работа трансформатора под нагрузкой. лекция [190,2 K], добавлена 20.01.2010 19. Схемотехнические параметры. Конструктивно–технологические данные. Классификация интегральных микросхем и их сравнение. Краткая характеристика полупроводниковых интегральных микросхем. Расчёт полупроводниковых резисторов, общие сведения об изготовлении. курсовая работа [3,8 M], добавлена 13.01.2009 20. Описание процесса термического окисления, цели его проведения и применяемое оборудование. Краткая характеристика и общее строение интегральной микросхемы. Последовательность формирования изолированных областей в изопланарной структуре транзистора. реферат [314,3 K], добавлена 07.01.2011 Другие подобные документы
Рекомендуем!
|
||||||||||||||||||||||||||||||||||
© ООО "Олбест" 2009 – 2011 Все права на базы данных защищены. |
база знаний |